简单一点，就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术

它有真空蒸发镀，溅射镀，离子镀等，获得这些沉积方法的途径有多种：电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法，可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备

相对于传统的湿发电镀，真空UV电镀的镀膜硬度超过4H、95%酒精浸泡48小时画格无脱落，镀层厚度均匀、光泽度好、附着力强、高硬度、高致密度、耐酒精、耐刮擦、耐腐蚀、耐磨性能优良。 

真空uv电镀具有以下优点：

 （1. 

沉积材料广泛：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系 

（2. 

节约金属材料：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的 

（3. 

无环境污染： 

由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小

但是由于获得真空和等离子体的仪器设备精密昂贵，而且沉积工艺还掌握在少数技术人员手中，没有大量被推广,其投资和日常生产维护费用昂贵

但是随着-的不断进步，真空电镀的优势会越来越明显，在某些行业取代传统的。